Zobrazeno 1 - 10
of 38
pro vyhledávání: '"Krátký, Stanislav"'
Autor:
Krátký, Stanislav
This thesis deals with grayscale e-beam lithography and diffractive optical elements fabrication. Three topics are addressed. The first topic is combined grayscale e-beam lithography. The goal of this task is combining exposures performed by two syst
Externí odkaz:
http://www.nusl.cz/ntk/nusl-438584
Autor:
Krátký, Stanislav
This thesis deals with the silicon etching technology. It Examines using of water solution of potassium hydroxide. It focuses on plasma etching of silicon using mixture of CF4 and O2 as the dry way of etching. Important parameters of etching like etc
Externí odkaz:
http://www.nusl.cz/ntk/nusl-219382
Autor:
Krátký, Stanislav
Práce je zaměřena na revitalizaci značky BBDR. Poté, co se výrobek dostane do fáze úpadku, je nutné vyvíjet činnosti, které výrobek oživí a opět nastartují jeho růstovou prodejnost. A právě tyto činnosti jsou hlavní náplní mé
Externí odkaz:
http://www.nusl.cz/ntk/nusl-2253
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 5 June 2017 177:30-34
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.