Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"Kou Wada"'
Autor:
Sadao Tsuboi, Akira Takeda, Takahiko Murakami, Takashi Sakai, Masanori Utaka, Norihisa Imajo, Kiichiro Kohra, Kou Wada, Yukihiro Ooga
Publikováno v:
Bulletin of the Chemical Society of Japan. 65:631-638
The bakers’ yeast reduction of a series of 2-oxoalkyl arenecarboxylates [R(C=O)CH2O(C=O)C6H4-p-X] (1a–f) (R = CH3 to n-C6H13; X = H) and the phenyl-modified derivatives (1g–l) (R = n-C5H11, X = OH, CH3, F, Cl, Br, or I) as well as 1-chloro-2-al
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0b8aa8c7fa7971c8d88512a1cbdaf910
https://doi.org/10.1246/bcsj.65.631
https://doi.org/10.1246/bcsj.65.631
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 8:769-774
An accel‐mode einzel lens with through‐lens energy analyzer is developed to apply a purely electrostatic optical column in low‐voltage electron beam testers. A purely electrostatic optical column, enabling use of the accel‐mode einzel lens as
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9fa401f69aedd6da108e638f49450cf3
https://doi.org/10.1116/1.576915
https://doi.org/10.1116/1.576915
Publikováno v:
SAE Technical Paper Series.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9b5cce01475e92f8991a5091bc6cf06f
https://doi.org/10.4271/2001-01-0533
https://doi.org/10.4271/2001-01-0533
Publikováno v:
DAC
An electron beam exposure system used for LSI mask making or direct writing for ASICs is considered. In CAD data/electron beam exposure-data conversion, a new algorithm for treating overlapping cells hierarchically is proposed. Geometric transformati
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::303df4edc1fcf7821a4dac2f94fec96e
https://doi.org/10.1145/123186.123293
https://doi.org/10.1145/123186.123293
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 8:1152
A new objective lens structure is proposed for observing the bottom of submicron trenches with a low‐voltage scanning electron microscope. By placing a magnetic coil close to the specimen, and using it to apply a strong magnetic field to the specim
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1a3b424b31718fc99f9462009809ade3
https://doi.org/10.1116/1.584934
https://doi.org/10.1116/1.584934
Autor:
Akira Ishii, Kou Wada
Publikováno v:
Journal of the Society of Mechanical Engineers. 89:1207-1210
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::04c1b776b5643a7ab5a7d232aafdbe7f
https://doi.org/10.1299/jsmemag.89.815_1207
https://doi.org/10.1299/jsmemag.89.815_1207
Publikováno v:
Electronics and Communications in Japan (Part II: Electronics). 68:86-93
We propose a process evaluation method using channel-doped MOS devices and process/device simulators for quantitative evaluation of contamination and surface condition. The amount of contamination is determined by comparison of the measured and simul
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::edac078bcb762a3fd8322db941ea2b63
https://doi.org/10.1002/ecjb.4420680310
https://doi.org/10.1002/ecjb.4420680310
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.