Zobrazeno 1 - 10
of 31
pro vyhledávání: '"Kothari, Prateek"'
In the present work, HfO2 thin film (100nm) has been deposited by sputtering technique and annealed at various temperatures ranging from 400 to 1000\degree (in step of 200 \degree) in O2 ambient for 10 min. The samples have been characterized using X
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1509.01064
Autor:
Thouti, Eshwar, Nagaraju, Atmakuru, Chandran, Achu, Prakash, P.V.B.S.S, Shivanarayanamurthy, P, Lal, Banwari, Kumar, Prem, Kothari, Prateek, Panwar, Deepak
Publikováno v:
In Sensors and Actuators: A. Physical 15 October 2020 314
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Infrared Physics and Technology March 2018 89:161-167
Autor:
Gaur, Surender P., Kothari, Prateek, Maninder, K., Kumar, Prem, Rangra, Kamaljit, Kumar, Dinesh
Publikováno v:
In Infrared Physics and Technology May 2017 82:154-160
Autor:
Gupta, Sanjeev K., Singh, Jitendra, Anbalagan, K., Kothari, Prateek, Bhatia, Ravi Raj, Mishra, Pratima K., Manjuladevi, V., Gupta, Raj K., Akhtar, J.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 1 January 2013 264:737-742
Autor:
Singh, Jitendra, Gupta, Sanjeev K., Singh, Arvind K., Kothari, Prateek, Kotnala, R.K., Akhtar, J.
Publikováno v:
In Journal of Magnetism and Magnetic Materials March 2012 324(6):999-1005
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.