Výsledky vyhledávání - "Kosuke Kameyama"

Low loss SOI-based high-mesa waveguides fabricated using neutral loop discharge (NLD) plasma etching for compact breath-sensing system

Autor: Kiichi Hamamoto, Satoshi Yano, Kosuke Kameyama

Publikováno v: Scopus-Elsevier

SOI-based Si/SiO2high-mesa waveguide has been fabricated by using neutral loop discharge (NLD) plasma etching. Significant loss reduction of about 50%, resulted in 0.3dB/cm propagation loss, has been achieved.

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2a654b01ed2ffcbfe50b7cf5d4c6d9a6
https://doi.org/10.1364/ipnra.2007.iwa7

Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání