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pro vyhledávání: '"Koropecki, Roberto Roman"'
Autor:
Forzani, L., Garces Pineda, Felipe Andres, Arce, R.d., Rodi, Pablo Marcelo, Passeggi, Mario Cesar Guillermo, Gennaro, Ana Maria, Koropecki, Roberto Roman
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En este trabajo desarrollamos metodologías basadas en propiedades fotónicas del silicio poroso y de la alúmina porosa, para el estudio de transformaciones de fase de membranas lipídicas confinadas en diferentes entornos. Se presentan aquí result
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::3d566f854604b967f41864dc75e240e8
http://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/1964
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Publikováno v:
Handbook of Porous Silicon
Besides the well-known effect of photoluminescence, the impinging of photons and other kinds of particles such as electrons, ions, and muons on porous silicon produces important effects. Some of these effects can modify the structure and properties o
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3498::c7cff85b1506855716b8f433e661cdcd
https://www.springer.com/gp/book/9783319057446?utm_campaign=bookpage_about_buyonpublisherssite&utm_medium=referral&utm_source=springerlink
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Autor:
Elizalde, Emanuel, Rahman, M.M., Urteaga, Raul, Berli, Claudio Luis Alberto, Koropecki, Roberto Roman
Publikováno v:
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2014;04(25):189-193
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En este trabajo se utiliza una técnica optofluídica para estudiar el ensanchamiento químico de los poros de membranas de alúmina nanoporosa. La técnica optofluídica consiste en medir la evolución de la reflectancia de luz láser producida por
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::1a09816743675e4b4efc47cb481a2d47
Autor:
Garces Pineda, Felipe Andres, Acquaroli, Leandro Nicolás, Dussan, A., Koropecki, Roberto Roman, Arce, Roberto Delio
Publikováno v:
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2010;02(22):32-36
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En este trabajo se presentan resultados de la caracterización eléctrica y estructural de junturas del tipo Schottky, obtenidas a través de la deposición de SnO2:F sobre silicio poroso, utilizando la vía Sol-Gel como mecanismo de deposición. Par
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::e3328ed8601ae478eae5dd9e16fcc60e
http://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/431
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Autor:
Lasave, Liliana Carolina, Priano, Graciela Inés, Koropecki, Roberto Roman, Battaglini, Fernando, Arce, Roberto Delio
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El silicio poroso (SP) es un material que actualmente está cobrando gran importancia en aplicaciones biomédicas debido a sus notables propiedades estructurales y optoelectrónicas. En este trabajo presentamos resultados de estructuras de SP desarro
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::4aec3b4e75cd978d4868d38c06708d5b
https://bibliotecavirtual.unl.edu.ar/publicaciones/index.php/FABICIB/article/view/853/1238
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In this paper, after a short recall of the information that can be extracted from different experiments based on the photoconductivity properties of a semiconductor, we present experimental results obtained on a thin film of hydrogenated amorphous si
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3498::419dc47706b6d6c0be571c123373a445
https://joam.inoe.ro/download.php?idu=2028
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En este trabajo se presenta un estudio de la densidad de estados (DOS) obtenida en muestras de silicio microcristalino dopadas con Boro [µc-Si:H (B)] a través del método de conductividad térmicamente estimulada (TSC) y comparada con los resultado
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3498::9a91f70af3b54fc3fad84c1c4d79928a
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Boron-doped microcrystalline silicon films were deposited in a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system using silane (SiH4) diluted in hydrogen, and diborane (B2H6) as a dopant gas. The effects of the Boron concentration on the optica
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::c3e3644c37aeda3eaadb4ff5f2714ae2
https://rmf.smf.mx/pdf/rmf-s/53/7/53_7_253.pdf
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Autor:
Dussan, A., Koropecki, Roberto Roman
Una serie de películas delgadas de silicio microcristalino dopadas con Boro (µc-Si:H (B)) fueron depositadas por el método de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). Las muestras fueron dopas con Boro. La microestructura
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3498::e422c914d381dc3aea976abdf4c0bd67
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En este trabajo se presentan resultados del estudio del grado y características de la cristalización en muestras de película delgada de silicio amorfo hidrogenado, depositada por PECVD, las cuales fueron sometidas a varios procesos térmicos. Se u
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https://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/254
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