Výsledky vyhledávání - "Konarskii, P."

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

EFFECT OF DEPOSITION PARAMETERS ON THE SUPERHARDNESS AND STOICHIOMETRY OF NANOSTRUCTURED Ti-Hf-Si-N FILMS

Autor: Pogrebnyak, A. D., Beresnev, V. M., Shpak, A. P., Konarskii, P., Komarov, F. F., Kirik, G. V., Makhmudov, N. A., Kolesnikov, D. A., Uglov, V. V., Sobol, O. V., Kaverin, M. V., Grudnitskii, V. V.

Publikováno v: CIÊNCIAVITAE
ResearcherID

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::88ffb7ceb7ecec1e8b4e3f42d6af9e09
http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=ORCID&SrcApp=OrcidOrg&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=WOS:000302464100006&KeyUID=WOS:000302464100006

Zobrazit plný text záznamu