Zobrazeno 1 - 10
of 17
pro vyhledávání: '"Kogelschatz, Martin"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Putranto, Achmad Fajar, Petit-Etienne, Camille, Cavalaglio, Sébastien, Cabannes-Boué, Benjamin, Panabiere, Marie, Forcina, Gianluca, Fleury, Guillaume, Kogelschatz, Martin, Zelsmann, Marc
Publikováno v:
ACS Applied Materials & Interfaces; 5/29/2024, Vol. 16 Issue 21, p27841-27849, 9p
Autor:
Gentile Pascal, Oehler Fabrice, Kreisel Jens, Roussel Hervé, Montès Laurent, Potié Alexis, Baron Thierry, Dhalluin Florian, Rosaz Guillaume, Salem Bassem, Latu-Romain Laurence, Kogelschatz Martin
Publikováno v:
Nanoscale Research Letters, Vol 6, Iss 1, p 187 (2011)
Abstract The growth of semiconductor (SC) nanowires (NW) by CVD using Au-catalyzed VLS process has been widely studied over the past few years. Among others SC, it is possible to grow pure Si or SiGe NW thanks to these techniques. Nevertheless, Au co
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/521147a9d2ad416c821d6d26d8e820a9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Kogelschatz, Martin
L'objectif de ce travail est de comprendre les interactions plasma-surface pendant la gravure du silicium dans des chimies HBr/Cl2/O2. Dans ces procédés, une couche se dépose sur les parois du réacteur et mène à la dérive du procédé. La natu
Externí odkaz:
http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00009005
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/04/79/61/PDF/tel-00009005.pdf
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/04/79/61/PDF/tel-00009005.pdf
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2004, Vol. 22 Issue 3, p624-635, 12p