Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Kobayashi, Takema"'
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In mask manufacturing, resist coating is one of the most important processes for fine pattern making because the pattern CD uniformity largely depends on the resist film accuracy. In recent years, various spin coating methods, we have found that the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6a220732e624664b2543d16df7eadb57
https://doi.org/10.1117/12.354304
https://doi.org/10.1117/12.354304
Autor:
Yamamoto, Tomohiko, Ishiwata, Naoyuki, Yanagishita, Yuichiro, Kobayashi, Takema, Asai, Satoru
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2001, Issue 1, p52-60, 9p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2000 Part 2, Issue 1, p315-326, 12p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov1997, Issue 1, p243-249, 7p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.