Zobrazeno 1 - 10
of 83
pro vyhledávání: '"Klug Andreas"'
Publikováno v:
Journal of Materials Research, 32(9), 1760-1769 (2017)
Mechanical stability of Ag and Cu printed and evaporated metallization lines on polymer substrates is investigated by means of monotonic tensile and cyclic bending tests. It is shown that lines which demonstrate good performance during monotonic test
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1904.04529
Publikováno v:
In Procedia CIRP 2022 107:1391-1396
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Di Pietro, Riccardo, Venkateshvaran, Deepak, Klug, Andreas, List-Kratochvil, Emil J. W., Facchetti, Antonio, Sirringhaus, Henning, Neher, Dieter
A model for the extraction of the charge density dependent mobility and variable contact resistance in thin film transistors is proposed by performing a full derivation of the current-voltage characteristics both in the linear and saturation regime o
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1402.5241
Publikováno v:
In IFAC PapersOnLine 2019 52(5):431-437
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Zissis Samaras, Anastasios Kontses, Tero Lahde, Barouch Giechaskiel, Klug Andreas, Mamakos Athanasios, Leonidas Ntziachristos, Andersson Jonathan, Zisimos Toumasatos
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9a9c294759693689cfbb9983778e3896
https://doi.org/10.26226/morressier.5e4fe9c16bc493207536faa5
https://doi.org/10.26226/morressier.5e4fe9c16bc493207536faa5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.