Výsledky vyhledávání - "Kirmse, Karen"

Study of SiO₂ to Si etching selectivity in high density, low pressure fluorocarbon plasmas

Thesis (Ph. D.)--University of Wisconsin--Madison, 1996.
Typescript. eContent provider-neutral record in process. Description based on print version record. Includes bibliographical references (leaves 132-136).

Externí odkaz: http://catalog.hathitrust.org/api/volumes/oclc/34998161.html

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Conference

Local CD variation in 65nm node with PSM processes STI topography characterization (I).

Autor: Gu, Yiming, Chang, Simon, Zhang, Gary, Kirmse, Karen, Rogers, Duncan, Olsen, Leif, Lewellen, John

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2006, Issue 1, p615204-615204-11, 11p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Spectral scatterometry for 2D trench metrology of low-K dual-damascene interconnect.

Autor: Ukraintsev, Vladimir A., Kulkarni, Mak, Baum, Christopher C., Kirmse, Karen, Guevremont, Marco, Lakkapragada, Suresh, Bhatia, Kamal N., Herrera, Pedro P., Whitney, Umar K.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2002, Issue 1, p189-195, 7p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Fluorocarbon high density plasmas. VIII. Study of the ion flux composition at the substrate in electron cyclotron resonance etching processes using fluorocarbon gases.

Autor: Kirmse, Karen H. R., Wendt, Amy E., Oehrlein, Gottlieb S., Zhang, Ying

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1994, Vol. 12 Issue 4, p1287-1292, 6p

Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání