Deposition of niobium nitride thin films from Tert-Butylamido-Tris-(Diethylamido)-Niobium by a modified industrial MOCVD reactor

Autor: Thiede, T., Parala, H., Reuter, K., Passing, G., Kirchmeyer, S., Hinz, J., Lemberger, M., Bauer, A. J., Barreca, D., Gasparotto, Alberto, Fischer, R. A.

Publikováno v: Chemical vapor deposition
15 (2009): 334–341.
info:cnr-pdr/source/autori:T. B. Thiede, H. Parala, K. Reuter, G. Passing, S. Kirchmeyer, J. Hinz, M. Lemberger, A.J. Bauer, D. Barreca, A. Gasparotto, R.A. Fischer/titolo:Deposition of Niobium Nitride Thin Films from Tert-Butylamido-Tris-(Diethylamido)-Niobium by a Modified Industrial MOCVD Reactor/doi:/rivista:Chemical vapor deposition (Print)/anno:2009/pagina_da:334/pagina_a:341/intervallo_pagine:334–341/volume:15

Niobium nitride thin films are deposited on 200 silicon (100) wafers using a modified industrial metal-organic (MO)CVD reactor of the type AIX-200RF, starting from tert-butylamido-tris-(diethylamido)-niobium (TBTDEN) and ammonia. Films of thicknesses

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::e4c6c40ceb508e5b2c32182896fe6b16
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/219997

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.