Zobrazeno 1 - 10
of 34
pro vyhledávání: '"Kinetic Monte Carlo modeling"'
Publikováno v:
Molecules, Vol 27, Iss 24, p 8710 (2022)
The oxidation/weathering of molybdenite (MoS2) is too slow to be monitored, even under pure oxygen and high temperatures, while it proceeds rapidly through humid air. The adsorption of water molecules on molybdenite is necessary for the wet oxidation
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/a95b314b0a404b3bbac829be5a46b983
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Coatings, Vol 9, Iss 6, p 361 (2019)
Coatings
Volume 9
Issue 6
Coatings
Volume 9
Issue 6
Today, Mg is foreseen as one of the most promising materials for hydrogen storage when prepared as nano-objects. In this context, we have studied the fabrication of Mg nano-sculpted thin films by magnetron sputtering deposition in glancing angle conf
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f41328f96026440f234d9adf97c9485c
https://www.mdpi.com/2079-6412/9/6/361
https://www.mdpi.com/2079-6412/9/6/361
Autor:
Dagmar R. D'hooge, Stijn Van Hulle, Koen Deventer, Klaartje De Buysser, Dave Manhaeghe, Karen De Clerck, Eva Loccufier
Publikováno v:
CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL
A challenge for the photodegradation of (organic) micro-pollutants in waste water treatment is the mechanistic and kinetic understanding beyond the degradation of the initial (parent) harmful product, e.g. the phenylurea herbicide isoproturon (IPU).
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::60671a954d2b5a39fff5912c890d9ace
https://doi.org/10.1016/j.cej.2020.124143
https://doi.org/10.1016/j.cej.2020.124143
Autor:
Sven Van Elshocht, Esteban A. Marques, J. Ruud van Ommen, Fabio Grillo, Job Soethoudt, Yoann Tomczak, Annelies Delabie, Laura Nyns
© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim Understanding the growth mechanisms during the early stages of atomic layer deposition (ALD) is of interest for several applications including thin film deposition, catalysis, and area-selective depo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f64ca7688ecfda90192a6f4f8757b3c6
https://lirias.kuleuven.be/handle/123456789/644998
https://lirias.kuleuven.be/handle/123456789/644998
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.