Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Kimio Sakai"'
Publikováno v:
Skin Cancer. 15:27-30
We reported a case of basal cell nevus syndrome (BCNS) . A 12-year old boy visited us for the examination of numerous skin pits on the palms. He showed hypertelorism, mandibular cyst, calcification of the falx, and mental retardation. Clinical diagno
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::dfdd23237bc171b69c35439304eabb85
https://doi.org/10.5227/skincancer.15.27
https://doi.org/10.5227/skincancer.15.27
Autor:
Shunsuke Shirai, Kimio Sakai, Hiroshi Takamatsu, Katsuaki Yamaoka, Hideo Hirano, Kimihisa Ohshinden, Tomoya Matsunaga, Hirotaka Kawamura
Publikováno v:
Zairyo-to-Kankyo. 48:74-81
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::571414d793db6c9a2aba7884e93bb8a1
https://doi.org/10.3323/jcorr1991.48.74
https://doi.org/10.3323/jcorr1991.48.74
Autor:
Hirotaka Kawamura, Hideo Hirano, Hiroshi Takamatsu, Tomoya Matsunaga, Shunsuke Shirai, Katsuaki Yamaoka, Kimihisa Ohshinden, Kimio Sakai
Publikováno v:
Zairyo-to-Kankyo. 48:226-234
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::819d2054269af8f426b529d164af30fe
https://doi.org/10.3323/jcorr1991.48.226
https://doi.org/10.3323/jcorr1991.48.226
Autor:
Takahisa Hattori, Toshiharu Miyagawa, Hiroyuki Nagao, Kimio Sakai, Kenkichi Ishigure, Hiroshi Takaku, Shunsuke Uchida
Publikováno v:
Journal of the Atomic Energy Society of Japan / Atomic Energy Society of Japan. 37:898-906
軽水炉の水化学技術は,冷却水と材料との相互作用を,主として冷却水の視点で取り扱う技術である。これまでの水化学の基礎研究の進歩とその成果の実機への適用の結果,我が国の軽水炉
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e7bf0e51b17e3f1d20b8d3a3b6dbe8b4
https://doi.org/10.3327/jaesj.37.898
https://doi.org/10.3327/jaesj.37.898
Autor:
Takashi Honda, Minato Akira, Shujiro Morishita, Minoru Miki, Kimio Sakai, Masakiyo Izumiya, Katsumi Osumi
Publikováno v:
CORROSION ENGINEERING. 30:450-455
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::710afd4a15d51f6f65028bf491571ded
https://doi.org/10.3323/jcorr1974.30.8_450
https://doi.org/10.3323/jcorr1974.30.8_450
Observation and Utilization of Boron Segregation in Trench MOSFETs to Improve Figure of Merit (FOM).
Autor:
Hao Wang, H. P. Edward Xu, Wai Tung Ng, Kenji Fukumoto, Akira Ishikawa, Yuichi Furukawa, Hisaya Imai, Takashi Naito, Nobuyuki Sato, Kimio Sakai, Satoru Tamura, Kaoru Takasuka
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters; Nov2008, Vol. 29 Issue 11, p1239-1241, 3p, 1 Chart, 4 Graphs
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.