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Publikováno v:
Advances in Chemistry ISBN: 9780841225008
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e4ed0f370b9ca6bfadad34e10468bb81
https://doi.org/10.1021/ba-1993-0233.ch016
https://doi.org/10.1021/ba-1993-0233.ch016
Autor:
C. KEITH RIEW, A. J. KINLOCH, Y. Huang, D. L. Hunston, Anthony J. Kinloch, Donald D. Huang, P. A. Lovell, J. McDonald, D. E. J. Saunders, M. N. Sherratt, R. J. Young, E. A. Flexman, Ruth H. Pater, Mark D. Soucek, Bor Z. Jang, A. Tse, E. Shin, A. Hiltner, E. Baer, Laurent Suspene, Yeong Show Yang, Jean-Pierre Pascault, R. J. Bertsch, A. R. Siebert, S. Bandyopadhyay, H.-J. Sue, E. I. Garcia-Meitin, D. M. Pickelman, P. C. Yang, Jeffrey C. Hedrick, Niranjan M. Patel, James E. McGrath, F. J. McGarry, R. B. Rosner, Walter L. Bradley, W. Schultz, Carlos Corleto, S. Komatsu, Didier Verchère, Henry Sautereau, S. M. Moschiar, C. C. Riccardi, R. J. J. Williams, Masatoshi Kubouchi, Hidemitsu Hojo, Amir H. Rezaifard, Kenn A. Hodd, John M. Barton, Raymond A. Pearson, Junkyung Kim, Richard E. Robertson, Isabelle Frischinger, Stoil Dirlikov, R. J. Morgan, R. J. Jurek, D. E. Larive, C. M. Tung, T. Donnellan, Mark A. Hoisington, James C. Seferis, Willard D. Bascom, S-Y. Gweon, D. Grande, J. M. Kenny, A. Trivisano, L. Nicolais