Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"Kei Kasuya"'
Autor:
Toshio Sakamizu, Kei Kasuya, Hiroshi Shiraishi, Michiaki Hashimoto, Tadashi Arai, Sonoko Migitaka
Publikováno v:
Journal of Photopolymer Science and Technology. 14:523-530
We have investigated acid-breakable (AB) resins for chemical-amplification positive resists. The AB resin was synthesized by a co-condensation reaction between an alkali-soluble polyphenol (4, 4′-[1-[4-[1-(4-Hydroxyphenyl)-1-methylethyl]phenyl]-eth
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c2eb085f68ddf344717101d2fa2ea224
https://doi.org/10.2494/photopolymer.14.523
https://doi.org/10.2494/photopolymer.14.523
Autor:
M. Nakai, Kei. Kasuya, Waldemar Mróz, Y. Shimada, Sumiko Nakai, S. Ozawa, Sadaaki Suzuki, Yasukazu Izawa, Mikio Enoeda, Keiji Nagai, Hiroyuki Furukawa, Koichi Kasuya, K. Mima, Takayoshi Norimatsu, Koichiro Ezato, W. Kasuya, N. Kasuya, Hiroshi Azechi, Bogusław Budner, T. Yamanaka, Artur Prokopiuk, Kenji Yokoyama, Masato Akiba
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The most recent fundamental research results to investigate surface erosions of nuclear fusion candidate chamber materials are described in short. We used a commercial surface profiler with a red semiconductor laser. Various material surfaces ablated
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::061c7cfe81a3ca3c9b698c062197a8c0
https://doi.org/10.1117/12.878465
https://doi.org/10.1117/12.878465
Autor:
Toshio Sakamizu, Hiroshi Shiraishi, Michiaki Hashimoto, Tadashi Arai, Sonoko Migitaka, Kei Kasuya
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
We have designed a new chemical amplification (CA) positive resist for 0.1micrometers reticle fabrication. This positive resist consists of an acid-generator, an acid-diffusion controller, and an acid-breakable (AB) resin that can be converted to ini
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::dc539d46e4849cabb6c355d52a90905f
https://doi.org/10.1117/12.438351
https://doi.org/10.1117/12.438351
Autor:
Takashi Soga, Hiroshi Shiraishi, Hidetaka Saitoh, Toshio Sakamizu, Morihisa Hoga, Tadashi Arai, Kei Kasuya, Kohji Katoh
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
We have developed a novolak-based chemical-amplification resist for 0. 13-rim or later reticle fabrication. Forthe 0. 13.jim or later design-rule reticle-fabrication with OPC patterns, the resist resolution is required under 0.2-.tm on the mask subst
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::06539e0cc683e3f815079276a10e49be
https://doi.org/10.1117/12.392065
https://doi.org/10.1117/12.392065
Autor:
Hidetaka Saitoh, Tadashi Arai, Toshio Sakamizu, Hidetoshi Satoh, Kei Kasuya, Kohji Katoh, Morihisa Hoga
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
We have been developing novolak-based chemically amplified positive resists for the next generation photomask fabrication. In this paper, we report two different types of EB resists: RE-5150P and RE-5160P. Our resist materials consist of four compone
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::adb2127c07c4d18a6ad956e2b1989632
https://doi.org/10.1117/12.373354
https://doi.org/10.1117/12.373354
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
We have been developing a novolak-based chemically amplified positive resist for next generation photomask (below 0. l8um) fabrication. This resist prevents footing profile by use of a hydrophilic polyphenol compound.We succeeded in improving PED and
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1ba0cf2ad09efa1266eaaa219675cd84
https://doi.org/10.1117/12.360200
https://doi.org/10.1117/12.360200
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.