Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Katsuhito OGURA"'
Autor:
Kouki AKAHORI, Hisato IGA, Katsuhito OGURA, Soshi HOKONOHARA, Kyohei SHIBUKAWA, Shunichi SAKURAGI, Ikuyo MAKINO
Publikováno v:
The Proceedings of the Fluids engineering conference. 2022:OS06-42
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6670431ceb76a3d89aa70abf30c1cb73
https://doi.org/10.1299/jsmefed.2022.os06-42
https://doi.org/10.1299/jsmefed.2022.os06-42
Autor:
Shusuke Yoshitake, Kenji Ooki, Ryoichi Hirano, Toru Tojo, Yoji Ogawa, Katsuhito Ogura, Teruaki Yamamoto, Masaki Toriumi, Yoshiaki Tada
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a5a1b327727db18dfa4771137f766c97
https://doi.org/10.1117/12.373383
https://doi.org/10.1117/12.373383
Autor:
Yoshiaki Tada, Teruaki Yamamoto, Yoji Ogawa, Shusuke Yoshitake, Toru Tojo, Ryoichi Hirano, Masaki Toriumi, Kenji Ooki, Katsuhito Ogura
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Meeting the latest requirements of aggressive users for the advanced mask for optical lithography will be difficult. In addition, improving the productivity and throughput of the advanced mask with high-density pattern data is necessary. To overcome
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d2734f60acad243e48a4d17bbcc17b95
https://doi.org/10.1117/12.360222
https://doi.org/10.1117/12.360222
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.