Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"Kai Gäbel"'
Publikováno v:
Optical Design and Fabrication 2019 (Freeform, OFT).
We show that an imperfectly aligned asphere-CGH-measurement leads to artifacts that are indistinguishable from common manufacturing errors such as trefoil and spherical aberration. We apply a machine learning approach to correct for these artifacts.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fc45f33780e8bea12e4aa0494bd76e9c
https://doi.org/10.1364/oft.2019.ow4a.3
https://doi.org/10.1364/oft.2019.ow4a.3
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 209:867-873
Ca 3 (Nb 0.9 Ga 0.09 Cr 0.01 ) 1.875 Ga 3 O 12 (CNGG : Cr 3+ ) single crystals have been grown by Czochralski method in the nitrogen with little oxygen. Laser-induced broad band fluorescence from the crystal was observed in the region 770 nm under th
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::25e6020e0416d4fd6ba285127e449fe7
https://doi.org/10.1016/s0022-0248(99)00724-1
https://doi.org/10.1016/s0022-0248(99)00724-1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Bakshi, Vivek
This comprehensive volume, edited by a senior technical staff member at SEMATECH, is the authoritative reference book on EUV source technology. The volume contains 38 chapters contributed by leading researchers and suppliers in the EUV source field.
