Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"K.N. Nordquist"'
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :355-360
A traditional method of e-beam lithography simulation uses the convolution of beam point spread function (a.k.a. “proximity function”) with the electron dose image to calculate density of energy deposited in resist. The proximity function is calc
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d7da95bf53b01e3d0833cbec7b991cee
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00523-8
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00523-8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.