Zobrazeno 1 - 10
of 956
pro vyhledávání: '"K.C. Chen"'
Autor:
Syed Naime Mohammad, Chao-Jen Tsou, Afu Chiu, Norman Birnstein, Erick deGouw, Clemens Utzny, Philip Groeger, Stefan Buhl, W.H. Wang, C.H. Huang, Elvis Yang, T.H. Yang, K.C. Chen
Publikováno v:
Optical and EUV Nanolithography XXXVI.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::401cc17af057eb44afb5d446ceb88ba9
https://doi.org/10.1117/12.2657965
https://doi.org/10.1117/12.2657965
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of the 8th International Conference on Industrial and Business Engineering.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c1d1ed9c514956ee8ba9b679af44bd3a
https://doi.org/10.1145/3568834.3568906
https://doi.org/10.1145/3568834.3568906
Autor:
K.C. Chen, James, Kien Pham, Van
Publikováno v:
foresight, 2014, Vol. 16, Issue 3, pp. 229-249.
Externí odkaz:
http://www.emeraldinsight.com/doi/10.1108/FS-11-2012-0088
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Li-Ting Chang, Yu-Lin Liu, Chi-Hao Huang, Rishabh S. Kushwaha, Yen C. Chuan Sun, Cheng H. Wu, Shao C. Cheng, Hsiao F. Su, Yen H. Liu, Mars Yang, Elvis Yang, T.H. Yang, K.C. Chen
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::446b6e70ce069371b9053c4d60bdca2e
https://doi.org/10.1117/12.2613193
https://doi.org/10.1117/12.2613193
Autor:
Wei-Hung Wang, Irina Brinster, Mohsen Maniat, Fatima Anis, Yen Hui Lee, Sven Bosese, C.F. Tseng, Wei Yuan Chu, Boris Habets, C.H. Huang, Elvis Yang, T.H. Yang, K.C. Chen
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b2541cdb4a4f88afc5f3953d30a1b1a3
https://doi.org/10.1117/12.2613202
https://doi.org/10.1117/12.2613202