Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"K. Wehmer"'
Autor:
K. Wehmer, K. Lee, Benjamin C. P. Ho, Jamie A. Vasquez, Stanley M. Filipiak, Kevin D. Lucas, B. Montgomery, Charles Fredrick King, C. Cook, David L. O'Meara, Anna Phillips
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
As 248 nm DUV lithography is pushed to the 0.18 micrometers generation with logic features 0.14 micrometers and below, process control requirements become severe. Previously acceptable exposure latitude variations due to substrate reflectivity have b
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::52af88957f939a67898d8c0d66023821
https://doi.org/10.1117/12.350832
https://doi.org/10.1117/12.350832
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.