Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"K. Tastets"'
Autor:
C. Mouroux, J. Leroueille, L. Vallier, O. Bernaud, K. Tastets, N. Wlodarczyk, V. Dureuil, Jean-Luc Baltzinger
Publikováno v:
2010 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).
The defect density reduction is one of the main challenges to increase the yield. This article presents a mechanism of defect formation specific to the STI module. This defect - flake like - appears during HDP-CVD process deposition. It comes from ox
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::03b09ffb1f7d75831a2befea7e23451a
https://doi.org/10.1109/asmc.2010.5551455
https://doi.org/10.1109/asmc.2010.5551455
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.