Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"K. Segola"'
Autor:
C.T. Thethwayo, C.B. Mtshali, Z.M. Khumalo, K. Segola, S. Nsengiyumva, N. Mongwaketsi, C.L. Ndlangamandla, P.N. Biyela
Publikováno v:
Heliyon, Vol 10, Iss 16, Pp e35830- (2024)
The influence of 150 keV argon ions at fluences in the range of 1 × 1012–1 × 1016 ions/cm2 on the stability of the multilayer stack Pd/Zr/Pd/Ti/Pd thin films system, deposited on Ti and Ti6Al4V substrates, under thermal annealing in an H2 environ
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/aa06753f168d41a5891626058af7c4a1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.