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Autor:
G. Hoffmann, D. Holzmann, F. Jäger, K. Riedling, G. H. Schwuttke, K. A. Pandelisev, R. C. White, H. Holzmann, W. Kausel, G. Nanz, S. Selberherr, H. Pötzl, H. Leopold, R. Röhrer, G. Winkler, M. Thurner, K. Seiner, W. Tritremmel, G. Walther, Erwin Schoitsch, S. Hertl, G. Schaffar, K. Schmidt, H. Steinbrecher, F. Voggenberger, W. Windischhofer, R. Turba, J. Grabner, H. Aberl, F. Seifert, F. Buschbeck, K. Wallisch, Ch. Eichtinger, P. Wach, W. Bittinger, A. Kainz, M. Jestl, W. Beinstingl, K. Berthold, A. Köck, E. Gornik, G. Kloiber, F. Kreid, K. P. Schröcker, M. Schrödl, E. Brazda, G. Niedrist, K. Dietz, P. Fey, S. Frenkenberger, M. Furtner, B. Dejneka, A. Goiser, M. Sust, M. Kowatsch, Ch. Jorde, G. G. Thallinger, E. Mothwurf, E. Schubert, J. Steger, E. Trzeba, I. Awramow, R. Pucher, L. M. Auer, S. Schuy, H. Schima, L. Huber, A. Prodinger, H. Schmallegger, H. Thoma, H. Stöhr, W. Mayr, R. Steiner, O. Wiedenbauer, G. List, G. Wießpeiner, Th. Petsch, G. Doblhoff, D. Kirchner, O. Koudelka, A. Gierlinger, A. Ullrich, B. Braune, H. Horvat, U. Mayer, A. Gauby, A. Richter, K. R. Spie
Im Tagungsband zur Informationstagung'Mikroelektronik 87'werden die in Form von Kurzvorträgen und Posters dargebotenen Beiträge in übersichtlicher Form präsentiert und geben einen guten Überblick über den aktuellen Forschungs- und Wissensstand
Autor:
K. Riedling, G. Stangl, I. W. Rangelow, Peter Hudek, I. Kostic, F. Rüdenauer, Uwe B. Sleytr, Angela Neubauer, Dietmar Pum, W. Fallmann
Publikováno v:
e & i Elektrotechnik und Informationstechnik. 115:349-353
In diesem Beitrag wird die Herstellung von mehreren Mikrometer hohen Strukturen mit lateralen Abmessungen im Sub-Mikrometer-Bereich (150 nm bis 300 nm), die als Stabfanger fur kosmischen Mikrostaub verwendet werden sollen, beschrieben. Der verwendete
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
Regular arrays of sub-0.5 μm tips are of increasing interest, for example, as field emitters, calibration structures, or, in our particular case, as collector surfaces for sub-μm dust particles in a space experiment. This contribution describes the
Autor:
K. Riedling, Artur Jachimowicz, W. Fallmann, R. Schallauer, O. Prohaska, F. Olcaytug, Gerald Urban, K. Pirker, Franz Kohl
Publikováno v:
Materials Science Forum. :671-688
Autor:
K. Riedling, J. Schweda
Publikováno v:
Proceedings of the 2002 IEEE International Workshop on Behavioral Modeling and Simulation, 2002. BMAS 2002..
A new simulation model for Hall devices in CMOS silicon technology is proposed. Nonlinearities caused by effects, as back-bias and vertical field-effect, transient effects caused by parasitics and wide operational range in temperature were taken into
Publikováno v:
2000 22nd International Conference on Microelectronics. Proceedings (Cat. No.00TH8400).
An efficient thermal management in electronic components is essential to minimize the influence of thermomechanically induced stress and thermal load. To reduce the effort caused by measuring the thermal behavior of semiconductor components frequentl
Autor:
G. Stangl, P. Aigner, Peter Hudek, R. Chabicovsky, J. Hochreiter, K. Riedling, H. Hauser, Ivan Kostic
Publikováno v:
ASDAM 2000. Conference Proceedings. Third International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems (Cat. No.00EX386).
The anisotropic magnetoresistive (AMR) effect of dc sputtered Ni 81%-Fe 19% films has been increased up to /spl Delta//spl rho///spl rho/=3.93% at 50 nm thickness. Investigations have been concentrated on the influence of the target current, the targ
Publikováno v:
Multisensorikpraxis ISBN: 9783642643651
Fur die Beobachtung langsam ablaufender Vorgange, im speziellen der fur den Wasser- und Ionenhaushalt der Landschaft verantwortlichen, wurden Mes- und Registriersonden entwickelt, die moglichst kostengunstig die Erfassung einer Reihe von interessiere
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d41435a25174a4178113eeea80ceaffe
https://doi.org/10.1007/978-3-642-60348-8_12
https://doi.org/10.1007/978-3-642-60348-8_12
Autor:
K. Riedling
Publikováno v:
Thin Solid Films. 61:335-340
A method for improving the accuracy of simple ellipsometers of the fixed retarder and fixed angle of incidence type is presented. All the appratus parameters affecting measurement accuracy—the retarder characteristics, the azimuthal alignment of th
Autor:
K. Riedling
Publikováno v:
Fresenius' Zeitschrift f�r Analytische Chemie. 319:706-711
Ellipsometrie eignet sich als beruhrungs- und zerstorungsfreies optisches Verfahren speziell zur Untersuchung von Oberflacheneffekten. Statische ellipsometrische Messungen erlauben aber prinzipiell nur die Ermittlung zweier unbekannter Probenparamete