Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"K. Rapolu"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
K. Rapolu, Kapila Wijekoon, Michael P. Stewart, David Tanner, F. Yan, Jeff Franklin, Xuesong Lu, Andie Chan, Hemant P. Mungekar, Hari Ponnekanti, Yi Zheng, Prabhat Kumar, V. Dabeer, Lin Zhang, Mukul Agrawal, Manoj Vellaikal, Damanjot Kaur Kochhar
Publikováno v:
2012 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference.
An integration process was developed for the fabrication of rear passivated point contact solar cells achieving 19.36% conversion efficiency by using 156×156mm, pseudo square, p-type single crystalline silicon wafers. This is a significant improveme
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::018a630600b7d9a458c5350d2aba1c22
https://doi.org/10.1109/pvsc.2012.6317807
https://doi.org/10.1109/pvsc.2012.6317807
Autor:
Kapila Wijekoon, Manoj Vellaikal, Damanjot Kaur Kochhar, Lin Zhang, F. Yan, Xuesong Lu, Mukul Agrawal, Yi Zheng, Hari Ponnekanti, David Tanner, V. Dabeer, Prabhat Kumar, K. Rapolu, A. Chan, Hemant P. Mungekar, Michael P. Stewart, Jeff Franklin
Publikováno v:
2012 38th IEEE Photovoltaic Specialists Conference.
This work reports on the integration process of rear point contact solar cells with reduced recombination and better light trapping than the conventional cells. Al 2 O 3 /SiN x passivation stacks were used to ensure the backside passivation and the e
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2910601b05d8c26e76de5267a7c4b0b5
https://doi.org/10.1109/pvsc.2012.6318030
https://doi.org/10.1109/pvsc.2012.6318030
Autor:
Vinodh Chandrasekaran, Karl A. Littau, Preston Davis, Daniel L. Meier, Baomin Xu, Jim Zesch, K. Rapolu, Adam M. Payne
Publikováno v:
2010 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference.
We have fabricated solar cells using a standard POCl 3 process along with a PECVD SiN x AR coating. In particular, we have also used a self-doping paste with belt furnace firing in conjunction with laser ablation to remove the silicon nitride passiva
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3f7d697f4107349bb5b247af3931793b
https://doi.org/10.1109/pvsc.2010.5614357
https://doi.org/10.1109/pvsc.2010.5614357
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.