Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"K. Mocsar"'
Autor:
M. Tallian, A. Pap, K. Mocsar, A. Somogyi, Gy. Nadudvari, D. Kosztka, T. Pavelka, Jiro Matsuo, Masataka Kase, Takaaki Aoki, Toshio Seki
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
State‐of‐the‐art ultra‐shallow junctions are produced using extremely low ion implant energies, down to the range of 1–3 keV. This can be achieved by a variety of production techniques; however there is a significant risk that the actual im
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3c48d649952a2c9e043b1aec45fef59d
https://doi.org/10.1063/1.3548444
https://doi.org/10.1063/1.3548444
Autor:
M. Tallian, A. Pap, K. Mocsar, A. Somogyi, Gy. Nadudvari, D. Kosztka, T. Pavelka, Jiro Matsuo, Masataka Kase, Takaaki Aoki, Toshio Seki
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
Ultra shallow junctions are becoming widely used in the micro‐ and nanoelectronic devices, and novel measurement methods are needed to monitor the manufacturing processes. Photomodulated Reflection measurements before anneal and Junction Photovolta
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::58ee0f7f607000cc4950c564683196ec
https://doi.org/10.1063/1.3548443
https://doi.org/10.1063/1.3548443
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.