Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"K. Matasunaga"'
Autor:
Yong-Taik Kim, Hirokazu Kato, S. Inoue, Motofumi Komori, Hirotaka Tsuda, Kei Kobayashi, A. Mitra, K. Matasunaga, Hiroshi Tokue, Sachiko Kobayashi, Masanobu Saito, Tetsuro Nakasugi, T. Imamura, Wooyung Jung, Takeharu Motokawa, Tatsuhiko Higashiki, T. Komukai, Kazuya Fukuhara, J. Cho, Masamitsu Itoh, Masayuki Hatano, K. Takahata, Shingo Kanamitsu, Takuya Kono, Kohji Hashimoto
Publikováno v:
2018 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM).
We developed a nanoimprint lithography (NIL) technology including NIL system, template and resist process for half pitch (hp) 14 nm direct pattering. The latest NIL system NZ2C shows the mix and match overlay (MMO) of 3.4 nm ( $3\sigma$ ) and the tem
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e8e744f518046f1bb7c5a2041b9f1608
https://doi.org/10.1109/iedm.2018.8614578
https://doi.org/10.1109/iedm.2018.8614578
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.