Zobrazeno 1 - 10
of 54
pro vyhledávání: '"Künzelmann, U."'
Autor:
Lykova, M., Langer, E., Hinrichs, K., Panchenko, I., Meyer, J., Künzelmann, U., Wolf, M.J., Lang, K.D.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 15 December 2018 202:19-24
Autor:
Müller, M.R., Gumprich, A., Schütte, F., Kallis, K., Künzelmann, U., Engels, S., Stampfer, C., Wilck, N., Knoch, J.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 1 May 2014 119:95-99
Autor:
Künzelmann, U., Schumacher-Härtwig, H.
Publikováno v:
In Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP) Edition: Second Edition. 2022:413-451
Autor:
Aida, H., Baisie, E.A., Boning, D., Borucki, L., Cook, Lee, Fan, W., Schumacher-Härtwig, H., Krishnan, M., Künzelmann, U., Lagudu, Uma Ramesh Krishna, Lee, Kangchun, Li, Z.C., Lofaro, M.F., Moon, Y., Nalaskowski, J., Ong, P., Paik, Ungyu, Park, Jin-Goo, Pate, K., Penta, N.K., Philipossian, A., Yerriboina, Nagendra Prasad, Papa Rao, S.S., Roy, Dipankar, Safier, P., Sampurno, Y., Seo, Jihoon, Song, Z., Speed, D.E., Teugels, L., Theng, S., Tseng, Wei-Tsu, Tsujimura, M., Wang, L., Zhang, Q., Zhang, X.H., Zwicker, G.
Publikováno v:
In Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP) Edition: Second Edition. 2022:xi-xiii
Autor:
Künzelmann, U., Schumacher, H.
Publikováno v:
In Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP) 2016:359-396
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Müller, M., Salazar, R., Fathipour, S., Xu, H., Kallis, K., Künzelmann, U., Seabaugh, A., Appenzeller, J., Knoch, J.
Publikováno v:
Nanoscale Research Letters; 11/22/2016, Vol. 11 Issue 1, p1-6, 6p
The new deposition method with laser-induced controlled vacuum arc (Laser-Arc) was used for the thin film deposition of diamond-like carbon films on different materials (KBr, KCl, NaCl, ZnSe, KRS-5, Ge, c-Si and Corning 7059). The substrates were cle
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::becc0ff90858dec54a49b71ea75bad92
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/184303
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/184303
