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Definición de criterios y parámetros de diseño de un sistema de depósito químico de vapor asistido por aerosol (AACVD)

Autor: Jorge Mario Hincapié zapara, Beatriz Cruz Muñoz, Rubén José Dorantes Rodríguez

Publikováno v: Scientia et Technica. 25:136-141

La tecnica de Deposito Quimico de Vapor Asistido por Aerosol (AACVD) consiste en un proceso de atomizacion de una solucion precursora, la cual genera gotas que se envian por medio de un gas portador hacia la superficie de un sustrato, creciendo sobre

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https://doi.org/10.22517/23447214.21101

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