Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"John M. Jerke"'
Autor:
Charles E. Wendell, John M. Jerke
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Both antireflective (AR)-chromium and bright-chromium photomasks are currently used in the production of integrated circuits. Differences in the optical transmittance and reflectance of these photomasks can significantly change the line-image thresho
Autor:
Russell D. Young, Diana Nyyssonen, Arie W Hartman, William J. Keery, John M. Jerke, Richard E. Swing
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In the current linewidth-measurement program at the National Bureau of Standards, the primary measurement of micrometer-wide lines on black-chromium artifacts is made with an interferometer located in a scanning electron microscope (SEM). The data ou
Autor:
Diana Nyyssonen, John M Jerke
Interferometric testing of optical systems measures the pupil function, or wavefront deviations from a reference sphere, of the lenses and mirrors. From this pupil function, the optical transfer function (OTF), spread function, and aberration coeffic
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c5c1c88a50d186ac4eb1940a6b5a3f53
https://doi.org/10.21236/adb013275
https://doi.org/10.21236/adb013275
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.