Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Jianou Shi"'
Autor:
Jianou Shi, David L. Allara
Publikováno v:
Langmuir. 12:5099-5108
Thin (∼10 nm) BaO films on tungsten substrates, prepared at specific coverages from multilayer Langmuir-Blodgett precursor films, were heated to different temperatures between 200 and 1200°C in a vacuum environment. The chemical changes occurring
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5efd94880be8189b8c2bb32fc10b5e97
https://doi.org/10.1021/la960196+
https://doi.org/10.1021/la960196+
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
The measurements and simulation of barium atom and ion number densities in low and high frequency fluorescent lamp are presented. Barium emitted from the electrode surface has a strong interaction with the local plasma. The distributions of number de
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f188d0c21f015cb61b06046a2f093420
https://doi.org/10.1109/plasma.1994.589101
https://doi.org/10.1109/plasma.1994.589101
Autor:
Jianou Shi, Laurie S. Goldner, Greg Owen, Linda J. Insalaco, Sharine Chen, Steven Paul Grindle, Christopher L. Cromer
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The use of intense, broadband, ultraviolet (UV) radiation in the stabilization of photoresist requires stableUv sources and sensors, as well as suitable calibration procedures. We have constructed and measuredthe stability of a new UV transfer source
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a2f11af2a6d011063e637f6136c37465
https://doi.org/10.1117/12.209247
https://doi.org/10.1117/12.209247
Autor:
Shou-Mian Chen, Ji-Sheng Pan, Jianou Shi, P. D. Foo, Licheng M. Han, N. Balasubramanian, Ling Soon Wong
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 148:F148
Carbon-doped SiO 2 low k thin films were prepared by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition at 400°C from polymerization of tetramethylsilane (4MS) and copolymerization of tetramethylsilane and silane (SiH 4 ) precursor, with nitr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0a24c94ac0b298930f53eb6d0d6ffcfa
https://doi.org/10.1149/1.1375797
https://doi.org/10.1149/1.1375797
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of 1994 IEEE 21st International Conference on Plasma Sciences (ICOPS); 1994, p209-209, 1p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.