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pro vyhledávání: '"Jenspeter Rau"'
Autor:
Josef Mathuni, Joerg Butschke, Jenspeter Rau, Florian Letzkus, Frank-Michael Kamm, C. Koepernik, Ch. Holfeld, Guenther Ruhl
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Currently, EUV lithography targets for sub-50 nm features. These very small feature sizes are used for reflective illumination and impose great challenges to the mask maker since they do not allow a simple downscaling of existing technologies. New ma
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4a99017f9e6f58174f6819a49a6872bb
https://doi.org/10.1117/12.568010
https://doi.org/10.1117/12.568010
Autor:
Reinhard Springer, Frank-Michael Kamm, Guenther Ruhl, Josef Mathuni, Dirk Knobloch, Jenspeter Rau, Florian Letzkus
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
EUV mask technology poses many new challenges on mask manufacturing processes. One crucial manufacturing step is the patterning of the EUV absorber. Although in the first concepts a Chromium film is used as absorber, increasing demands for shrinking
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0ff1ad18aaeccad4e2360f92b0739b35
https://doi.org/10.1117/12.504243
https://doi.org/10.1117/12.504243
Autor:
Frank Scholze, Johannes Tummler, Albrecht Ehrmann, Frank-Michael Kamm, Andreas Wolter, Gerhard Ulm, Jenspeter Rau, Josef Mathuni
Publikováno v:
19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.
CD metrology requirements have increased dramatically within the last years. For the coming technology generations, it is not clear which CD measurement method will be standard for mask manufacturing. An interesting approach is to use the diffracted
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c4d34fc8d00c5b364c7c79475eadac07
https://doi.org/10.1117/12.514961
https://doi.org/10.1117/12.514961
Autor:
Christoph Stepper, Albrecht Ehrmann, Josef Mathuni, Frank-Michael Kamm, Hermann Wendt, Jenspeter Rau
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Extreme ultraviolet lithography (EUVL) is one of the most promising technologies for wafer feature sizes of below 50nm. The illumination wavelength will be approximately 13.5nm and consequently no transmissive optics can be used for this soft X-ray l
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b9bf2f20ada38c2d533b01e3146ff166
https://doi.org/10.1117/12.479358
https://doi.org/10.1117/12.479358
Autor:
Hermann Rau, Jenspeter Rau
Publikováno v:
Chemische Gleichgewichtsthermodynamik ISBN: 9783528065034
In diesem Kapitel lernen wir die Erweiterung des Energieerhaltungssatzes der Mechanik kennen und untersuchen den Einflus der verschiedenen Zustandsvariablen auf den Energieinhalt thermodynamischer Ein- und Mehrkomponentensysteme. Wir betrachten Rein-
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6bbfa8671fc90a7aff7c998de12770a7
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_4
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_4
Autor:
Hermann Rau, Jenspeter Rau
Publikováno v:
Chemische Gleichgewichtsthermodynamik ISBN: 9783528065034
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8f0982f1b3ec3b95c05f0068d44f7f8e
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_8
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_8
Autor:
Hermann Rau, Jenspeter Rau
Publikováno v:
Chemische Gleichgewichtsthermodynamik ISBN: 9783528065034
In Kapitel 4.1 und Kapitel 4.2.2 mogen bei der Besprechung der Arbeit und der technischen Arbeit Probleme aufgetaucht sein, die Verhaltnisse auch dann zu verstehen, wenn der Druck im Inneren des Systems und in der Umgebung des Systems nicht gleich gr
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::62ca3be90690112b15ba3130de9d449b
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_9
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_9
Autor:
Hermann Rau, Jenspeter Rau
Publikováno v:
Chemische Gleichgewichtsthermodynamik ISBN: 9783528065034
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c05dd9b614a960e069ddd3a63a59edd4
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_7
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_7
Autor:
Jenspeter Rau, Hermann Rau
Publikováno v:
Chemische Gleichgewichtsthermodynamik ISBN: 9783528065034
In diesem Kapitel werden die beiden Ansatze nebeneinander gestellt. Die thermische Zustandsgieichung der Gase wird von beiden Seiten her bestimmt. Dabei ergeben sich Definitionen des Drucks und der Temperatur.
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::807f01d5d53e0b1912238e07dce3b5c3
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_3
https://doi.org/10.1007/978-3-663-09492-0_3