Zobrazeno 1 - 10
of 48
pro vyhledávání: '"Jasim, Ahmed M."'
Autor:
Numaan, Mohammed M.1 (AUTHOR) mohammed.m.numaaan@tu.iq, Jasim, Ahmed M.2 (AUTHOR) amjtg6@missouri.edu, Xing, Yangchuan2 (AUTHOR) xingy@missouri.edu, Fidalgo, Maria M.1 (AUTHOR) fidalgom@missouri.edu
Publikováno v:
Materials (1996-1944). Sep2024, Vol. 17 Issue 17, p4436. 12p.
Atomic layer deposition (ALD) provides uniform and conformal thin films that are of interest for a range of applications. To better understand the properties of amorphous ALD films, we need improved understanding of their local atomic structure. Prev
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2102.05726
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Chemosphere January 2022 286 Part 2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Powder Technology 1 March 2020 363:1-6
Publikováno v:
In Electrochimica Acta 20 January 2018 261:221-226
Autor:
Al Qader, Huda1 (AUTHOR) noorih@mail.missouri.edu, Jasim, Ahmed M.2 (AUTHOR) amjtg6@mail.missouri.edu, Salim, Hani1 (AUTHOR) salimh@missouri.edu, Xing, Yangchuan2 (AUTHOR) xingy@missouri.edu, Stalla, David3 (AUTHOR) ds5x8@missouri.edu
Publikováno v:
Materials (1996-1944). Apr2022, Vol. 15 Issue 8, pN.PAG-N.PAG. 19p.
Autor:
Jasim, Ahmed M., Al‐Raweshidy, Hamed
Publikováno v:
IET Networks (Wiley-Blackwell); Jan2024, Vol. 13 Issue 1, p13-27, 15p