Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Janet Wang-Ratkovic"'
Publikováno v:
Microelectronics Reliability. 41:649-660
In this paper the underlying mechanisms that produce the cross-over in worst-case hot-carrier stress condition observed at room temperature in some deep submicron lightly doped drain (LDD) NMOS devices and at cryogenic temperatures for devices with l
Publikováno v:
Microelectronics Reliability. 37:1747-1754
This work shows that the worst-case gate voltage stress condition for LDD nMOSFETs is a strong function of the channel length, drain voltage, and operating temperature. A new cross-over behavior of the worst-case gate voltage condition is reported at
Publikováno v:
1997 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings. 35th Annual.
This work shows that the worst-case gate voltage stress condition for LDD nMOSFETs is a strong function of the channel length, drain voltage, and operating temperature. A new cross-over behavior of the worst-case gate voltage condition is reported at
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.