Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"James H. Bennewitz"'
Publikováno v:
Optics and Lasers in Engineering. 20:241-257
This paper demonstrates the feasibility of optical microlithography as a grating production method for use in variable sensitivity moire interferometry. In this study, a crossed, binary, phase-type grating is produced and replicated onto the surface
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::96aa0d0443d7b4fac87f01811dc4ff90
https://doi.org/10.1016/0143-8166(94)90029-9
https://doi.org/10.1016/0143-8166(94)90029-9
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A deep UV projection system, capable of imaging lines and spaces of A 0.5 m width over a 14.5 mm diameter field has been developed. The system utilizes a single glass (fused silica) projection lens and a KrF excimer laser source at 248.4 nm wavelengt
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7afa3322e20b9384937d6f3f43800966
https://doi.org/10.1117/12.940397
https://doi.org/10.1117/12.940397
Autor:
V. Pol, M. Feldman, V.A. Firtion, James T. Clemens, James H. Bennewitz, Tanya E. Jewell, G.C. Escher, B.E. Wilcomb
Publikováno v:
1986 International Electron Devices Meeting.
A deep ultraviolet step and repeat system, operating at 248.4 nm, has been developed by retrofitting a commercial system with a KrF excimer laser and custom designed fused silica condenser and projection optics. The 5X projection lens has a minimum f
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::333cbaaef884b774d74eadb74adfbd3f
https://doi.org/10.1109/iedm.1986.191178
https://doi.org/10.1109/iedm.1986.191178
Autor:
James T. Clemens, Bruce E. Wilcomb, Gary C. Escher, James H. Bennewitz, Tanya E. Jewell, Martin Feldman, Victor Andrew Firtion, Victor Pol
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A deep UV projection system has been developed by modifying a commercial step and repeat exposure tool to operate at 248nm with an all-quartz lens and a KrF excimer laser. The lens is a 5X reduction lens with a minimum field size of 14.5 mm and a num
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f622e34ee398d21fd2e00f0f6d0079ba
https://doi.org/10.1117/12.963697
https://doi.org/10.1117/12.963697
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A new method to fabricate the gratings useful for integrated optical circuits (IOC) is described. The method combines optical projection lithography with spatial filtering. The projection lens uses nearly coherent illumination. Only the two first ord
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::88c8c854cb37c2aed6c7abf605c5486e
https://doi.org/10.1117/12.953178
https://doi.org/10.1117/12.953178
Publikováno v:
Optical Engineering. 26:264311
A deep-ultraviolet step-and-repeat system, operating at 248.4 nm, has been developed by retrofitting a commercial lithography tool with a KrF excimer laser and custom designed, fused silica condenser and projection optics. It is a reduction system wi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0e0cfa2312f69815a0cf31d67dbc9478
https://doi.org/10.1117/12.7974072
https://doi.org/10.1117/12.7974072
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.