Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Jackie Jean–Pierre Etrillard"'
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 33:6005
The etching of submicronic resist structures in an oxygen plasma has been investigated in a helicon wave reactor. Systematic investigations have been conducted on the structure profile dependences on ion energy and on plasma pressure. For resist etch
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::735e11a51c2ef7689c73cbd36f9519d3
https://doi.org/10.1143/jjap.33.6005
https://doi.org/10.1143/jjap.33.6005
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics; July 1994, Vol. 33 Issue: 7 p4126-4126, 1p