Zobrazeno 1 - 10
of 21
pro vyhledávání: '"J.W.A.M. Gielen"'
Autor:
DC Daan Schram, E. Dekempeneer, M.C.M. van de Sanden, J.W.A.M. Gielen, Wilhelmus M. M. Kessels, L.J. van IJzendoorn
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 98:1584-1589
Amorphous hydrogenated carbon films have been deposited at high growth rates (10–70 nm/s) by seeding acetylene in an expanding thermal argon plasma. The influence of the substrate temperature in the range of −50–300°C on the film properties, e
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::821b1dc379e75cd7b421f4fdc838810b
https://doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00358-7
https://doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00358-7
Autor:
P. R. M. Kleuskens, M.C.M. van de Sanden, E. Dekempeneer, J. Meneve, DC Daan Schram, J.W.A.M. Gielen, L.J. van IJzendoorn
Publikováno v:
Journal of Applied Physics, 80(10), 5986-5995. American Institute of Physics
Amorphous hydrogenated carbon films have been deposited on crystalline silicon and on glass from an expanding thermal plasma. Two deposition parameters have been varied: the electric current through the plasma source and the admixed acetylene flow. N
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::6c6a2b91c5ec7c1f369ba8fb34006599
https://doi.org/10.1063/1.363567
https://doi.org/10.1063/1.363567
Autor:
J.W.A.M. Gielen, H.C.M. van den Nieuwenhuizen, MF Gendre, Gerrit Kroesen, M.D. Bowden, M Marco Haverlag
Publikováno v:
IEEE Transactions on Plasma Science, 33(2), 262-263. Institute of Electrical and Electronics Engineers
In this paper, we present measurements related to the early stages of electrical breakdown occurring in a low-pressure argon straight discharge tube. A capacitive probe was used to retrieve the evolution of the lamp electrostatic potential over time
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e486ad2e1810083dfa32b598382a164b
https://doi.org/10.1109/tps.2005.845947
https://doi.org/10.1109/tps.2005.845947
Autor:
M.C.M. van de Sanden, W.F. van Ooij, S. Qian, DC Daan Schram, J.W.A.M. Gielen, Ajm Buuron, GJ Gijs Meeusen
Publikováno v:
International Conference on Plasma Sciences (ICOPS).
Summary form only given. A fast deposition method, utilizing a thermal plasma which expands into a vacuum vessel, has been used to deposit amorphous hydrogenated silicon and carbon layers (a-Si:H and a-C:H, respectively). The deposited layers are pro
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::79694287f82c25fb65ff668c07aa392c
https://doi.org/10.1109/plasma.1993.593612
https://doi.org/10.1109/plasma.1993.593612
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.