Zobrazeno 1 - 10
of 687
pro vyhledávání: '"J.J. Moore"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Thin Solid Films. 594:147-155
Deep oscillation magnetron sputtering (DOMS) is an alternative high-power pulsed magnetron sputtering technique, which offers virtually arc-free depositions especially for reactive depositions of some insulating coatings under optimized pulsing condi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ad0e3441d5b38a92ba33b80b779a9a8c
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2015.09.067
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2015.09.067
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 276:152-159
CrN/TiN multilayer coatings were deposited by pulsed dc magnetron sputtering (PDCMS) in a closed field unbalanced magnetron sputtering system. The Ti target power was maintained at 2000 W while the Cr target power was varied from 70 to 1000 W. As the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::15ddd0997aba1369d5bd3be45150eb81
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.06.064
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.06.064
Effect of Al content on structure and properties of TiAlCN coatings prepared by magnetron sputtering
Autor:
Yuqiao Zeng, J.J. Moore, Jianliang Lin, Jianqing Jiang, Xuhai Zhang, Zheng Tan, Yuedong Qiu, Aiqun Xu
Publikováno v:
Journal of Alloys and Compounds. 617:81-85
TiAlCN coatings were deposited by direct current reactive magnetron co-sputtering. In the coatings, the (Al + Ti), C and N contents were kept constant and the Al content is varied according to the different Al/Ti target power ratio. The structure, me
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5a99779657270d8f4ca8fe49c724e557
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2014.08.009
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2014.08.009
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Thin Solid Films. 520:4264-4269
Cr–C–N coatings with different compositions, i.e. (C + N)/Cr atomic ratios ( x ) of 0.81–2.77, were deposited using pulsed closed field unbalanced magnetron sputtering by varying the chromium and graphite target powers, the pulse configuration
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cb90247424226067f4252b4ec7ee0fbf
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.02.021
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.02.021
Publikováno v:
IEEE Transactions on Plasma Science. 38:3071-3078
Crystalline phase control is critical for obtaining desired structure and properties of Ta coatings deposited by magnetron sputtering. We have shown the approach to control the alpha and beta Ta phase formations by tuning the negative substrate bias
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c5c7ba64ec1451606c06637f5e364024
https://doi.org/10.1109/tps.2010.2068316
https://doi.org/10.1109/tps.2010.2068316
Publikováno v:
Materials Science Forum. :208-213
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) is an emerging thin film deposition technology that generate high ionization plasma by applying a very large amount of peak power to a sputtering target for a short period of time. HPPMS is also known as
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::40740ade7cfa4141303910a3a8b193b4
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.638-642.208
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.638-642.208