Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"J.G. Costigan"'
Autor:
C.C. Fu, John David Cuthbert, T.E. Adams, J.G. Costigan, Tungsheng Yang, D.E. Schrope, J.L. Ryan, T.M. Wolf, D.R. Stone
Publikováno v:
1991 International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications - Proceedings of Technical Papers.
A cost-effective 0.5 mu m lithographic capability has been developed using a reduction stepper with a 0.45 Na i-line lens and new photoresists. Resist processes provide excellent CD and sidewall angle control, with satisfactory exposure latitude. Res
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a85992b43b0d5142051f6f2576cbe229
https://doi.org/10.1109/vtsa.1991.246719
https://doi.org/10.1109/vtsa.1991.246719
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.