Zobrazeno 1 - 10
of 20
pro vyhledávání: '"J.C. Sum"'
Publikováno v:
Nuclear Physics B, Vol 1005, Iss , Pp 116616- (2024)
The Aharonov-Bohm (AB) effect is considered in the context of Generalized Electrodynamics (GE) by Podolsky and Bopp. GE is the only extension to Maxwell electrodynamics that is locally U(1)-gauge invariant, admits linear field equations and contains
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/594fbbd46c5d44bca02fd6d3a670781d
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Shawming Ma, L.M. MacInnes, N. Hendricks, C.A. Treadwell, Nigel P. Hacker, J. Dunne, Lisa Figge, G.W. Ray, J.C. Sum, R. Kavari
Publikováno v:
Proceedings of the IEEE 1999 International Interconnect Technology Conference (Cat. No.99EX247).
Process integration of a /spl kappa/=2.5 spin-on dielectric polymer into double-level metal CMOS parametric test structures at two technology nodes (0.35 /spl mu/m and 0.18 /spl mu/m) is described. This was accomplished using a single-coat, DOM (dire
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f5978ed6df4d2e732f2fad8bd6df00aa
https://doi.org/10.1109/iitc.1999.787116
https://doi.org/10.1109/iitc.1999.787116
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 6:290-292
A plasma etching process for patterning LPCVD (low-pressure chemical vapor deposition) Si/sub 3/N/sub 4/ which has been formed on thin thermally grown SiO/sub 2/ has been developed and characterized with an Applied Materials 8110 batch system using 1
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cc53c81971194d6421c3f23c94fdbb66
https://doi.org/10.1109/66.238183
https://doi.org/10.1109/66.238183
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.