Zobrazeno 1 - 10
of 27
pro vyhledávání: '"J.C. Alonso-Huitrón"'
Autor:
A.L. Muñoz-Rosas, N. Qureshi, G. Paz-Martínez, C.G. Treviño-Palacios, J.C. Alonso-Huitrón, A. Rodríguez-Gómez
Publikováno v:
Results in Physics, Vol 24, Iss , Pp 104095- (2021)
In this work, we use the Metal-Assisted Chemical Etching (MACE) technique together with an NH3 plasma treatment using a Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (RPECVD) equipment to modify the surface of semi-insulating GaAs (SI-GaAs) substr
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/e9dd685a518d4b5b8d58f6bc5c70def4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.