Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"J.-D.T. Pan"'
Autor:
J.-D.T. Pan, Ilan A. Blech
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 55:2874-2880
The stress of thin film tantalum silicide, titanium silicide, and tungsten silicide was measured in situ during sintering. These refractory metal silicide films were cosputtered on oxidized silicon, quartz, and sapphire substrates. The films were hea
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a84a04c88805c44532deef7deee1ac9b
https://doi.org/10.1063/1.333326
https://doi.org/10.1063/1.333326
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters. 4:380-382
Titanium silicide thin films, sputter deposited from a composite silicide target, have been rapidly sintered in ∼10 s to produce extremely uniform highly conductive layers (≲ Ω/sq \plusmn; 1 percent over a 4-in wafer) with film stress comparable
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::73f4cb4d28f55eb84f86bd2ba9e4179a
https://doi.org/10.1109/edl.1983.25771
https://doi.org/10.1109/edl.1983.25771
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.