Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"J. Thevin"'
Autor:
Robert William Ryan, Y.C. Wang, M. A. Melendes, R. Pullela, A. Tate, Y.K. Chen, R. A. Hamm, Rose Fasano Kopf, J. Thevin
Publikováno v:
Journal of Electronic Materials. 29:222-224
We have fabricated reduced area InGaAs/InP DHBTs for high speed circuit applications. To produce the small dimensions required, a process involving both wet chemical and ECR plasma etching was developed. Optical emission spectroscopy was used for end
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::031bf5cf45b2a805fd9139748db0ea42
https://doi.org/10.1007/s11664-000-0146-9
https://doi.org/10.1007/s11664-000-0146-9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.