Zobrazeno 1 - 10
of 42
pro vyhledávání: '"J. Schließer"'
Publikováno v:
wt Werkstattstechnik online. 93:332-338
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e44ff4db660c4f7fdbfe7c6336b29aad
https://doi.org/10.37544/1436-4980-2003-4-332
https://doi.org/10.37544/1436-4980-2003-4-332
Publikováno v:
wt Werkstattstechnik online. 93:129-135
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0f74e717205e4f269b979b00d733e659
https://doi.org/10.37544/1436-4980-2003-3-129
https://doi.org/10.37544/1436-4980-2003-3-129
Publikováno v:
Nephrology Dialysis Transplantation. 11:486-491
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4a9b93ab22e5c2600a680085b8fbfec2
https://doi.org/10.1093/oxfordjournals.ndt.a027316
https://doi.org/10.1093/oxfordjournals.ndt.a027316
Publikováno v:
IEEE/CPMT/SEMI 28th International Electronics Manufacturing Technology Symposium, 2003. IEMT 2003..
Due to its broad fields of applications, micro technology has become a key technology for the 21st century. In the scope of a successfully performed project for "Principles of universal device kit for micro-production", a simulation kit for testing a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8e562c2a477de5519263989915845b94
https://doi.org/10.1109/iemt.2003.1225926
https://doi.org/10.1109/iemt.2003.1225926
Kniha
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
10th Annual IEEE/SEMI. Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop. ASMC 99 Proceedings (Cat. No.99CH36295).
The mounting pressure of costs in the semiconductor industry has led to the use of increasingly complex production sequences, bigger substrates and shorter planning times. More and more, this also demands the fast, precisely-detailed planning of auto
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3e8bdff51028192d5f2d59404904aaa7
https://doi.org/10.1109/asmc.1999.798193
https://doi.org/10.1109/asmc.1999.798193
Autor:
P. Staudt-Fischbach, J. Schliesser
Publikováno v:
10th Annual IEEE/SEMI. Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop. ASMC 99 Proceedings (Cat. No.99CH36295).
Current trends in cleanroom technology are moving away from conventional systems and towards localized areas so-called minienvironments. To date, production facilities have been set up as ballrooms, clean-benches or minienvironments with a simple enc
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::43dd688222fa9b47d9275849a471e54a
https://doi.org/10.1109/asmc.1999.798309
https://doi.org/10.1109/asmc.1999.798309
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop.
SMIF technology for microelectronic production lines is being increasingly used worldwide. A crucial factor for an economical SMIF solution is the planning phase, where experience has shown that the general approach to the project must aim for an int
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b49f684746eeecd7b06140cdfeafbb07
https://doi.org/10.1109/asmc.1995.484409
https://doi.org/10.1109/asmc.1995.484409
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.