Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"J. Pastalan"'
Autor:
P. Mankiewich, K. Watts, Paul Anthony Polakos, Zhengxiang Ma, Y.-H. Wong, A.J. Becker, J. Pastalan, H. Huggins, Hui Wu
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices. 45:1811-1816
We have developed a novel technique for measuring the dielectric constant and loss tangent of a thin film dielectric material up to 5 GHz. The dielectric film needs to be deposited on a metal layer and capped with a metal electrode layer. The bottom
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::60d0c3b8ce553cf6dd17901de4f639d8
https://doi.org/10.1109/16.704383
https://doi.org/10.1109/16.704383
Publikováno v:
Ferroelectrics. 156:209-214
Brillouin scattering measurements have been carried out in the liquid crystal mixture Merck ZLI-2861 with a low viscosity and a broad nematic phase. Scattering from longitudinal acoustic phonons with different wave vectors was measured by changing th
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a68c6453c73d3025df3215527cb3dde2
https://doi.org/10.1080/00150199408215952
https://doi.org/10.1080/00150199408215952
Autor:
Rafael N. Kleiman, Bradley Paul Barber, P. L. Gammel, R. Miller, Hugo Safar, J. Pastalan, L. Fetter, H. Huggins
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 77:136-138
By using an atomic-force-microscope-based technique, we image the vibration of high-frequency, bulk-mode, thin-film resonators. Our experimental technique is capable of monitoring the vibration of these devices over a broad frequency range, from 1 MH
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::259433a05c0c38fc33b35b8240110c7b
https://doi.org/10.1063/1.126901
https://doi.org/10.1063/1.126901
Autor:
Rafael Reif, A.J. Becker, R. Miller, Charles G. Sodini, H. Huggins, J.J. Lutsky, J. Pastalan, G. Rittenhouse, L. Fetter, R.S. Naik, Y.-H. Wong
Publikováno v:
IEEE transactions on ultrasonics, ferroelectrics, and frequency control. 47(1)
Piezoelectric thin film AlN has great potential for on-chip devices such as thin-film resonator (TFR)-based bandpass filters. The AlN electromechanical coupling constant, K/sup 2/, is an important material parameter that determines the maximum possib
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8408b499845c29f1522037179175d155
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/18238542
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/18238542
Autor:
L. Fetter, J.E. Graebner, G.J. Herbsommer, H. Huggins, J. Pastalan, R. Miller, P.L. Gammel, H.F. Safar, Bradley Paul Barber
Publikováno v:
2000 IEEE Ultrasonics Symposium. Proceedings. An International Symposium (Cat. No.00CH37121).
An optical scanning interferometer is used to examine the mode structure of a solidly-mounted thin-film resonator (TFR) when it is excited electrically in the neighborhood of its resonant frequency. Scans across the surface with
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::745bbfca6ea5fac7c8646bdee0051fd3
https://doi.org/10.1109/ultsym.2000.922628
https://doi.org/10.1109/ultsym.2000.922628
Autor:
J. E. Bjorkholm, R. D'Souza, L. Eichner, R. R. Freeman, T. E. Jewell, A. A. MacDowell, W. M. Mansfield, J. Pastalan, L. H. Szeto, D. Taylor, D. M. Tennant, W. K. Waskiewicz, D. L. White, D. L. Windt, O. R. Wood
Publikováno v:
Optical Society of America Annual Meeting.
Our group has undertaken a program to determine the feasibility of using soft x-rays (wavelengths of ~13 nm) to carry out advanced projection lithography. Such a technology is attractive since it would offer the ability to use reduction imaging to ac
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::05c41649a1868108980be353106a31b4
https://doi.org/10.1364/oam.1991.fb2
https://doi.org/10.1364/oam.1991.fb2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.