Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"J Ochsenhirt"'
Autor:
C. Horner, Stefan Hirscher, E. Cekan, Andreas Wolter, Rainer Kaesmaier, Hans Loschner, M. Zeininger, J Ochsenhirt, Wolf-Dieter Domke
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :517-524
Ion projection lithography (IPL) is designed to realize resist structures on the wafer plane well below 100 nm. Patterns from a stencilmask are printed with 4× reduction using an electrostatic lens system. First exposures with the IPL Process Develo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::456b8fd651180ca56a377a271c77f33a
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00543-3
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00543-3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.