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Publikováno v:
Journal of Integrated Circuits and Systems. 16:1-6
In this paper, we report the effects of thermal annealing on Poly(methyl methacrylate) (PMMA) passivated, bottom gate thin film transistors, with amorphous hafnium oxide (HfO2) as gate dielectric and amorphous hafnium-indium-zinc oxide (a-HIZO) as se
Autor:
Salvador Ivan Garduño, Josué Fajardo Cornejo, Ventura Rodríguez-Lugo, Magali Estrada del Cueto
Publikováno v:
Pädi Boletín Científico de Ciencias Básicas e Ingenierías del ICBI. 9:72-81
Este estudio propone la optimización de las condiciones y parámetros de impresión por inyección piezoeléctrica de tintas basadas en óxido de zinc (ZnO) y óxido de zinc dopado con aluminio (Al:ZnO). Se imprimieron patrones con distinta resoluci
Autor:
Salvador Ivan Garduño, Samuel Martínez-Arreola, Norberto Hernández-Como, Ventura Rodríguez-Lugo, Magali Estrada
Publikováno v:
Pädi Boletín Científico de Ciencias Básicas e Ingenierías del ICBI. 9:110-118
Por sus ventajas, el SnO es un óxido semiconductor (OMS) usado en transistores de película delgada (TFTs) de canal-p y considerado para aplicaciones flexibles y transparentes. Aunque se deposita por varias técnicas, suele aplicarse un recocido >20
Autor:
Pablo Toledo, Martha Leticia Hernandez-Pichardo, Salvador Ivan Garduño, Jose Luis Hernandez-Lopez, Francisco Hernandez-Cuevas, Norberto Hernandez-Como
Publikováno v:
Flexible and Printed Electronics. 7:025015
Flexible amorphous In–Ga–ZnO (a-IGZO) thin film transistors (TFTs) have been successfully demonstrated on 50 µm thick freestanding polyimide (PI) with µ sat around 10 cm2 V−1 s−1. In the literature, common characterization of flexible TFTs
Akademický článek
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