Zobrazeno 1 - 10
of 19
pro vyhledávání: '"Ikegawa Masato"'
Autor:
Tanaka, So, Shinkai, Jiro, Ikegawa, Masato, Kato, Fumiki, Sato, Hiroshi, Kurashima, Hiromi, Mikamura, Yasuki
Publikováno v:
Materials Science Forum; June 2023, Vol. 1092 Issue: 1 p135-144, 10p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Transactions on Magnetics. Nov2009 Part 1 of 2, Vol. 45 Issue 11, p4918-4922. 5p.
Publikováno v:
Journal of Fluids Engineering; Jun2002, Vol. 124 Issue 2, p476, 7p, 6 Diagrams, 6 Graphs
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2001, Vol. 19 Issue 2, p460-466, 7p
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 31:2030
This study discusses modeling of a magneto-microwave plasma used in semiconductor manufacturing equipment such as etching reactors and chemical vapor deposition (CVD) reactors. A one-dimensional simulation program for magneto-microwave plasma was dev
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::10c1faa17d3e8208e12d67887506eca2
https://doi.org/10.1143/jjap.31.2030
https://doi.org/10.1143/jjap.31.2030
Publikováno v:
IEEE Transactions on Magnetics. Oct2006, Vol. 42 Issue 10, p2594-2596. 3p. 1 Diagram, 2 Graphs.
Study on the deposition profile characteristics in the micronscale trench using direct simulation...
Publikováno v:
Journal of Fluids Engineering; Jun98, Vol. 120 Issue 2, p296, 7p, 8 Diagrams, 1 Chart, 6 Graphs