Zobrazeno 1 - 10 of 39 pro vyhledávání: '"Ikawa, Eiji"'
1
Akademický článek
In situ electron spectroscopy study of Si surfaces after Ar-ion-assisted Cl2 etching.
Autor: Aoto, Nahomi, Ikawa, Eiji, Kurogi, Yukinori
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 1/1/1989, Vol. 65 Issue 1, p158, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 6 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
In-depth profiling of the SiO2/Si-interface electronic structure using low-energy electron energy loss spectroscopy
Autor: Kurogi Yukinori, Aoto Nahomi, Ikawa Eiji, Endo Nobuhiro
Publikováno v: Surface Science. 234:121-126
The SiO2/Si-interface of a thin oxide layer formed thermally under low O2 pressure is investigated. The electronic structure and the chemical bondings are analyzed with low-energy electron energy loss spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1bfee8a29f0d87971016a125eca5d7d1
https://doi.org/10.1016/0039-6028(90)90671-t
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Si surface study after Ar ion-assisted Cl2 etching.
Autor: Takasaki, Nahomi Aoto, Ikawa, Eiji, Kurogi, Yukinori
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1986, Vol. 4 Issue 4, p806-811, 6p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Thermal desorption spectroscopic analysis for residual chlorine on Al-Si-Cu after Cl2 electron cyclotron resonance plasma etching.
Autor: Teraoka, Yuden, Aoki, Hidemitsu, Nishiyama, Iwao, Ikawa, Eiji, Kikkawa, Takamaro
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1995, Vol. 13 Issue 6, p2935-2938, 4p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Direct analysis of contamination in submicron contact holes by thermal desorption spectroscopy.
Autor: Aoki, Hidemitsu, Teraoka, Yuden, Ikawa, Eiji, Kikkawa, Takamaro, Nishiyama, Iwao
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1995, Vol. 13 Issue 1, p42-46, 5p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Observation of sidewall contamination in submicron contact holes by thermal desorption spectroscopy.
Autor: Teraoka, Yuden, Aoki, Hidemitsu, Ikawa, Eiji, Kikkawa, Takamaro, Nishiyama, Iwao
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 6, p2197-2200, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Reactive ion etching lag on high rate oxide etching using high density plasma.
Autor: Akimoto, Takeshi, Nanbu, Hidetaka, Ikawa, Eiji
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 6, p2390-2393, 4p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Multilayer resist dry etching technology for deep submicron lithography.
Autor: Tokashiki, Ken, Sato, Kiyoyuki, Aoto, Nahomi, Ikawa, Eiji
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1993, Vol. 11 Issue 6, p2284-2287, 4p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje