Zobrazeno 1 - 10 of 47 pro vyhledávání: '"Ibbotson D"'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
The chemisorption of hydrogen on the (110) surface of iridium.
Autor: Ibbotson, D. E., Wittrig, T. S., Weinberg, W. H.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; May1980, Vol. 72 Issue 9, p4885-4895, 11p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
The chemisorption of CO on clean and oxidized Ir(110).
Autor: Taylor, J. L., Ibbotson, D. E., Weinberg, W. H.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; Nov1978, Vol. 69 Issue 9, p4298-4310, 13p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
On the role of oxygen and hydrogen in diamond-forming discharges.
Autor: Mucha, J. A., Flamm, D. L., Ibbotson, D. E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 5/1/1989, Vol. 65 Issue 9, p3448, 5p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Diamond crystal growth by plasma chemical vapor deposition.
Autor: Chang, C.-P, Flamm, D. L., Ibbotson, D. E., Mucha, J. A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/1/1988, Vol. 63 Issue 5, p1744, 5p, 4 Black and White Photographs, 1 Diagram, 1 Graph
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Plasmaless dry etching of silicon with fluorine-containing compounds.
Autor: Ibbotson, D. E., Mucha, J. A., Flamm, D. L., Cook, J. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Nov1984, Vol. 56 Issue 10, p2939-2942, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Conference
Interconnection requirements and multi-die integration for FPGAs.
Autor: Rahman, A., Schulz, J., Grenier, R., Chanda, K., Lee, M. J., Ratakonda, D., Shi, H., Li, Z., Chandrasekar, K., Xie, J., Ibbotson, D.
Publikováno v: 2013 IEEE International Interconnect Technology Conference - IITC; 2013, p1-3, 3p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Application of a low-pressure radio frequency discharge source to polysilicon gate etching.
Autor: Cook, J. M., Ibbotson, D. E., Flamm, D. L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1990, Vol. 8 Issue 1, p1-4, 4p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Chemical and Discharge Effects in Plasma Etching with Freons and Other Electronegative Gases.
Autor: Ibbotson, D., Flamm, D.
Publikováno v: IEEE Transactions on Electrical Insulation; 1982, Vol. EI-17 Issue 2, p163-167, 5p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje