Zobrazeno 1 - 10 of 36 pro vyhledávání: '"Ibbotson, Dale"'
1
Electronic Resource
A fundamental study of no reduction with hydrogen over IR(110)
Autor: Ibbotson, Dale E. Weinberg, Henry
Publikováno v: A fundamental study of no reduction with hydrogen over IR(110) [electronic thesis]
Thesis (Ph. D.). UM #81-14,932.
Includes bibliographical references.
Externí odkaz: http://resolver.caltech.edu/CaltechETD:etd-12142006-084027
Zobrazit plný text záznamu
2
Dissertation/ Thesis
A Fundamental Study of NO Reduction with Hydrogen over Ir(110)
Autor: Ibbotson, Dale Edward
The heterogeneously catalyzed reduction of NO with hydrogen over Ir(110), as well as the chemisorption of the individual reactants and some of the products, has been studied at low pressures (-5) torr). The experiments were performed with several sur
Externí odkaz: https://thesis.library.caltech.edu/4994/3/ibbotson_de_1981.pdf
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Doping and crystallographic effects in Cl-atom etching of silicon.
Autor: Ogryzlo, Elmer A., Ibbotson, Dale E., Flamm, Daniel L., Mucha, John A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/15/1990, Vol. 67 Issue 6, p3115, 6p, 1 Diagram, 2 Charts, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
The etching of doped polycrystalline silicon by molecular chlorine.
Autor: Ogryzlo, Elmer A., Flamm, Daniel L., Ibbotson, Dale E., Mucha, John A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 12/1/1988, Vol. 64 Issue 11, p6510, 5p, 1 Diagram, 3 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Copper-catalyzed etching of silicon by F2: Kinetics and feature morphology.
Autor: Selamoglu, Nur, Mucha, John A., Flamm, Daniel L., Ibbotson, Dale E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/1/1988, Vol. 64 Issue 3, p1494, 5p, 2 Black and White Photographs, 1 Diagram, 2 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Fluorinated chemistry for high-quality, low hydrogen plasma-deposited silicon nitride films.
Autor: Chang, Chorng-Ping, Flamm, Daniel L., Ibbotson, Dale E., Mucha, John A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/15/1987, Vol. 62 Issue 4, p1406, 10p, 5 Diagrams, 2 Charts, 6 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Catalyzed gaseous etching of silicon.
Autor: Selamoglu, Nur, Mucha, John A., Flamm, Daniel L., Ibbotson, Dale E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/1/1987, Vol. 62 Issue 3, p1049, 5p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Crystallographic etching of GaAs with bromine and chlorine plasmas.
Autor: Ibbotson, Dale E., Flamm, Daniel L., Donnelly, Vincent M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Oct1983, Vol. 54 Issue 10, p5974-5981, 8p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Conference
Design and manufacturing enablement for three-dimensional (3D) integrated circuits (ICs).
Autor: Rahman, Arifur, Shi, Hong, Li, Zhe, Ibbotson, Dale, Ramaswami, Sesh
Publikováno v: Proceedings of the IEEE 2012 Custom Integrated Circuits Conference; 1/ 1/2012, p1-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje